沙伯基礎創新塑料公司日前推出超純透明Stat-Loy63000CT系列復合材料。這種復合材料可用于晶圓防護設備，防止因釋氣所造成的毀損及由此導致晶片污染、廢料增加和成本提高等問題。

隨著元器件的日益精細化，塑料釋氣污染的影響日益明顯。由于容器可用材料匱乏，使新一代芯片制造工藝所需的氬氟激光技術難有用武之地。為此，沙伯基礎創新塑料率先開發出這種超純透明復合材料，以克服元件小型化過程中的障礙。該成果有助于利用氬氟激光技術制造出45納米或更小的精密電路。

超純透明復合材料是一種超潔凈、透明、永久性防靜電材料，可實現揮發性有機污染物超低析出，以及低水平可濾取離子釋放。此外，該材料還具有優異的著色性能，是光罩和晶片防護設備、芯片盒、光罩盒及處理盒的極佳備選材料。